Serveur d'exploration sur l'Indium

Attention, ce site est en cours de développement !
Attention, site généré par des moyens informatiques à partir de corpus bruts.
Les informations ne sont donc pas validées.

Application of a liquid metal ion source to secondary ion mass spectrometry

Identifieur interne : 000732 ( Main/Exploration ); précédent : 000731; suivant : 000733

Application of a liquid metal ion source to secondary ion mass spectrometry

Auteurs : RBID : ISTEX:216_1984_Article_BF01226756.pdf

Abstract

Eine Indium-Flüssigmetall-Ionenquelle wurde in eine Quadrupol-Ionensonde eingebaut und ihre Einsetzbarkeit als Primärstrahlquelle in der Sekundärionen-Massenspektrometrie geprüft. Die Sekundärionenemission von Reinelementen wurde für 10 keV In+- und 10 keV O2+-Bombardement untersucht. Für die meisten Elemente sind die positiven und negativen Sekundärionenausbeuten unter In+-Beschuß vergleichbar mit jenen, die man mit O2+ Primärionen erhält. Weiterhin wurden Tiefenprofile an einem Ni/Cr-Vielschichtsystem (Dicke der einzelnen Schichten 10 nm), einem oberflächennahen O-Implantationsprofil in Si- und Oxidschichten auf Nb unter Verwendung von In+-Primärionen gemessen. Die Ergebnisse zeigen, daß Flüssigmetall-Ionenquellen erfolgreich in der Sekundärionen-Massenspektrometrie eingesetzt werden können.

DOI: 10.1007/BF01226756

Links toward previous steps (curation, corpus...)


Le document en format XML

<record>
<TEI>
<teiHeader>
<fileDesc>
<titleStmt>
<title>Application of a liquid metal ion source to secondary ion mass spectrometry</title>
<author>
<name>H. Gnaser</name>
<affiliation wicri:level="1">
<mods:affiliation>Institut für Grenzflächenforschung und Vakuumphysik, Kernforschungsanlage Jülich, D-5170, Jülich, Federal Republic of Germany</mods:affiliation>
<country xml:lang="fr">Allemagne</country>
<wicri:regionArea>Institut für Grenzflächenforschung und Vakuumphysik, Kernforschungsanlage Jülich, D-5170, Jülich</wicri:regionArea>
<wicri:noRegion>Jülich</wicri:noRegion>
<wicri:noRegion>Jülich</wicri:noRegion>
</affiliation>
<affiliation wicri:level="1">
<mods:affiliation>Austrian Research Center Seibersdorf, A-1082, Vienna, Austria</mods:affiliation>
<country xml:lang="fr">Autriche</country>
<wicri:regionArea>Austrian Research Center Seibersdorf, A-1082, Vienna</wicri:regionArea>
<wicri:noRegion>Vienna</wicri:noRegion>
</affiliation>
</author>
</titleStmt>
<publicationStmt>
<idno type="RBID">ISTEX:216_1984_Article_BF01226756.pdf</idno>
<date when="1984">1984</date>
<idno type="doi">10.1007/BF01226756</idno>
<idno type="wicri:Area/Main/Corpus">000985</idno>
<idno type="wicri:Area/Main/Curation">000985</idno>
<idno type="wicri:Area/Main/Exploration">000732</idno>
</publicationStmt>
</fileDesc>
<profileDesc>
<textClass></textClass>
</profileDesc>
</teiHeader>
<front>
<div type="abstract" xml:lang="ger">Eine Indium-Flüssigmetall-Ionenquelle wurde in eine Quadrupol-Ionensonde eingebaut und ihre Einsetzbarkeit als Primärstrahlquelle in der Sekundärionen-Massenspektrometrie geprüft. Die Sekundärionenemission von Reinelementen wurde für 10 keV In+- und 10 keV O2+-Bombardement untersucht. Für die meisten Elemente sind die positiven und negativen Sekundärionenausbeuten unter In+-Beschuß vergleichbar mit jenen, die man mit O2+ Primärionen erhält. Weiterhin wurden Tiefenprofile an einem Ni/Cr-Vielschichtsystem (Dicke der einzelnen Schichten 10 nm), einem oberflächennahen O-Implantationsprofil in Si- und Oxidschichten auf Nb unter Verwendung von In+-Primärionen gemessen. Die Ergebnisse zeigen, daß Flüssigmetall-Ionenquellen erfolgreich in der Sekundärionen-Massenspektrometrie eingesetzt werden können.</div>
</front>
</TEI>
<mods xsi:schemaLocation="http://www.loc.gov/mods/v3 file:///applis/istex/home/loadistex/home/etc/xsd/mods.xsd" version="3.4" istexId="ac01e4c70bcd4e84117a15b37ebd16e0d1e982d1">
<titleInfo lang="eng">
<title>Application of a liquid metal ion source to secondary ion mass spectrometry</title>
</titleInfo>
<titleInfo lang="ger">
<title>Verwendung einer Flüssigmetall-Ionenquelle in der Sekundärionen-Massenspektrometrie</title>
</titleInfo>
<name type="personal">
<namePart type="given">H.</namePart>
<namePart type="family">Gnaser</namePart>
<role>
<roleTerm type="text">author</roleTerm>
</role>
<affiliation>Institut für Grenzflächenforschung und Vakuumphysik, Kernforschungsanlage Jülich, D-5170, Jülich, Federal Republic of Germany</affiliation>
<affiliation>Austrian Research Center Seibersdorf, A-1082, Vienna, Austria</affiliation>
</name>
<typeOfResource>text</typeOfResource>
<genre>Original Papers</genre>
<genre>Original Paper</genre>
<originInfo>
<publisher>Springer-Verlag, Berlin/Heidelberg</publisher>
<dateCreated encoding="w3cdtf">1984-05-09</dateCreated>
<dateValid encoding="w3cdtf">2005-01-26</dateValid>
<copyrightDate encoding="w3cdtf">1984</copyrightDate>
</originInfo>
<language>
<languageTerm type="code" authority="iso639-2b">eng</languageTerm>
</language>
<physicalDescription>
<internetMediaType>text/html</internetMediaType>
</physicalDescription>
<abstract lang="ger">Eine Indium-Flüssigmetall-Ionenquelle wurde in eine Quadrupol-Ionensonde eingebaut und ihre Einsetzbarkeit als Primärstrahlquelle in der Sekundärionen-Massenspektrometrie geprüft. Die Sekundärionenemission von Reinelementen wurde für 10 keV In+- und 10 keV O2+-Bombardement untersucht. Für die meisten Elemente sind die positiven und negativen Sekundärionenausbeuten unter In+-Beschuß vergleichbar mit jenen, die man mit O2+ Primärionen erhält. Weiterhin wurden Tiefenprofile an einem Ni/Cr-Vielschichtsystem (Dicke der einzelnen Schichten 10 nm), einem oberflächennahen O-Implantationsprofil in Si- und Oxidschichten auf Nb unter Verwendung von In+-Primärionen gemessen. Die Ergebnisse zeigen, daß Flüssigmetall-Ionenquellen erfolgreich in der Sekundärionen-Massenspektrometrie eingesetzt werden können.</abstract>
<abstract lang="eng">An indium liquid metal ion source has been incorporated in a quadrupole-based ion microprobe and its performance as a primary ion source for secondary ion mass spectrometry was evaluated. Secondary ion emission of pure elements was studied for 10 keV In+ and 10keV O2+ bombardment. For most of the elements investigated positive and negative secondary ion yields under In+ impact are comparable to those obtained with O2+ primary ions. In addition, depth profiles of a Ni/Cr multilayer sample (10 nm single-layer thickness), a shallow oxygen implant in silicon and oxide layers on niobium were obtained using In+ ions for sputter erosion. The results indicate that liquid metal ion sources can be applied successfully in secondary ion mass spectrometry.</abstract>
<relatedItem type="series">
<titleInfo type="abbreviated">
<title>Z. Anal. Chem.</title>
</titleInfo>
<titleInfo>
<title>Fresenius' Zeitschrift für analytische Chemie</title>
<partNumber>Year: 1984</partNumber>
<partNumber>Volume: 319</partNumber>
<partNumber>Number: 6-7</partNumber>
</titleInfo>
<genre>Archive Journal</genre>
<originInfo>
<dateIssued encoding="w3cdtf">1984-06-01</dateIssued>
<copyrightDate encoding="w3cdtf">1984</copyrightDate>
</originInfo>
<subject usage="primary">
<topic>Chemistry</topic>
<topic>Analytical Chemistry</topic>
<topic>Food Science</topic>
<topic>Inorganic Chemistry</topic>
<topic>Physical Chemistry</topic>
<topic>Ecotoxicology</topic>
</subject>
<identifier type="issn">0016-1152</identifier>
<identifier type="issn">Electronic: 1618-2650</identifier>
<identifier type="matrixNumber">216</identifier>
<identifier type="local">IssueArticleCount: 71</identifier>
<recordInfo>
<recordOrigin>Springer-Verlag, 1984</recordOrigin>
</recordInfo>
</relatedItem>
<identifier type="doi">10.1007/BF01226756</identifier>
<identifier type="matrixNumber">Art32</identifier>
<identifier type="local">BF01226756</identifier>
<accessCondition type="use and reproduction">MetadataGrant: OpenAccess</accessCondition>
<accessCondition type="use and reproduction">AbstractGrant: OpenAccess</accessCondition>
<accessCondition type="restriction on access">BodyPDFGrant: Restricted</accessCondition>
<accessCondition type="restriction on access">BodyHTMLGrant: Restricted</accessCondition>
<accessCondition type="restriction on access">BibliographyGrant: Restricted</accessCondition>
<accessCondition type="restriction on access">ESMGrant: Restricted</accessCondition>
<part>
<extent unit="pages">
<start>719</start>
<end>723</end>
</extent>
</part>
<recordInfo>
<recordOrigin>Springer-Verlag, 1984</recordOrigin>
<recordIdentifier>216_1984_Article_BF01226756.pdf</recordIdentifier>
</recordInfo>
</mods>
</record>

Pour manipuler ce document sous Unix (Dilib)

EXPLOR_STEP=IndiumV1/Data/Main/Exploration
HfdSelect -h $EXPLOR_STEP/biblio.hfd -nk 000732 | SxmlIndent | more

Ou

HfdSelect -h $EXPLOR_AREA/Data/Main/Exploration/biblio.hfd -nk 000732 | SxmlIndent | more

Pour mettre un lien sur cette page dans le réseau Wicri

{{Explor lien
   |wiki=   *** parameter Area/wikiCode missing *** 
   |area=    IndiumV1
   |flux=    Main
   |étape=   Exploration
   |type=    RBID
   |clé=     ISTEX:216_1984_Article_BF01226756.pdf
   |texte=   Application of a liquid metal ion source to secondary ion mass spectrometry
}}

Wicri

This area was generated with Dilib version V0.5.81.
Data generation: Mon Aug 25 10:35:12 2014. Site generation: Thu Mar 7 10:08:40 2024