Application of a liquid metal ion source to secondary ion mass spectrometry
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Auteurs : RBID : ISTEX:216_1984_Article_BF01226756.pdfAbstract
Eine Indium-Flüssigmetall-Ionenquelle wurde in eine Quadrupol-Ionensonde eingebaut und ihre Einsetzbarkeit als Primärstrahlquelle in der Sekundärionen-Massenspektrometrie geprüft. Die Sekundärionenemission von Reinelementen wurde für 10 keV In+- und 10 keV O2+-Bombardement untersucht. Für die meisten Elemente sind die positiven und negativen Sekundärionenausbeuten unter In+-Beschuß vergleichbar mit jenen, die man mit O2+ Primärionen erhält. Weiterhin wurden Tiefenprofile an einem Ni/Cr-Vielschichtsystem (Dicke der einzelnen Schichten 10 nm), einem oberflächennahen O-Implantationsprofil in Si- und Oxidschichten auf Nb unter Verwendung von In+-Primärionen gemessen. Die Ergebnisse zeigen, daß Flüssigmetall-Ionenquellen erfolgreich in der Sekundärionen-Massenspektrometrie eingesetzt werden können.
DOI: 10.1007/BF01226756
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<abstract lang="eng">An indium liquid metal ion source has been incorporated in a quadrupole-based ion microprobe and its performance as a primary ion source for secondary ion mass spectrometry was evaluated. Secondary ion emission of pure elements was studied for 10 keV In+ and 10keV O2+ bombardment. For most of the elements investigated positive and negative secondary ion yields under In+ impact are comparable to those obtained with O2+ primary ions. In addition, depth profiles of a Ni/Cr multilayer sample (10 nm single-layer thickness), a shallow oxygen implant in silicon and oxide layers on niobium were obtained using In+ ions for sputter erosion. The results indicate that liquid metal ion sources can be applied successfully in secondary ion mass spectrometry.</abstract>
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